日本ULVAC愛發(fā)科H83-50 H83-125 H84-125半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備

產(chǎn)品型號：H83-50 H83-125 H84-125
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2024-11-25
訪問量：144

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CLASSIFICATION

ULVAC愛發(fā)科

愛發(fā)科真空泵熱處理設(shè)備凍結(jié)真空干燥裝置真空爐離子注入機蝕刻設(shè)備灰化裝置真空沉積設(shè)備化學(xué)氣相沉積設(shè)備濺射設(shè)備

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詳細介紹

日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備

臥式熱處理設(shè)備H系列

這是一款高度可靠的熱處理爐，擁有 30 多年的良好記錄。可用于200mm硅片的氧化、擴散、退火等熱處理。

特征

這是一種臥式爐，用作氧化爐、擴散爐和退火爐。
可以在一臺設(shè)備上選擇不同的進程。
我們的目標(biāo)是通過使用 3 層或 4 層配置來節(jié)省空間。
5 個區(qū)域加熱器均獨立控制，可實現(xiàn)溫度控制，具有出色的熱均勻性和穩(wěn)定性。
配備內(nèi)部控制系統(tǒng)，操作簡單可靠。
H83-125和H84-125標(biāo)配船用升降機，可以輕松裝載到上層。
可以進行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl ₃ )和三溴化硼(BBr _{3 )的磷擴散、硼擴散和退火等工藝。}

目的

硅片的熱氧化、擴散和退火

規(guī)格

模型	H83-50	H83-125	H84-125
過程	氧化、擴散、退火
晶圓直徑	～200mm（8英寸）
級數(shù)	3	3	4
產(chǎn)品晶圓數(shù)量	50	125	125
加熱區(qū)	5
加熱器材質(zhì)	鐵鉻鋁
常用溫度	600～1200℃
浸泡長度	370毫米	800毫米	800毫米
溫度均勻	±1.0℃

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